Our Service

陶氏(DOW)抛光产品

GMT经营陶氏化学(DOW)的抛光垫/抛光液/无蜡垫(template)产品,主要应用于晶圆,硅片,CiN氮化硅,GaN氮化镓,InP磷化铟,LT/LN 钽酸锂 铌酸锂,GaAs 砷化镓,半导体,陶瓷,蓝玻璃,光学,蓝宝石,铝合金等,行业的研磨抛光加工。

以下为GMT经营抛光垫/抛光液的的主要型号,具体尺寸等规格欢迎洽询:

Suba600

Suba800

IC1000/IC1010

Politex/H1001

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陶氏化学抛光垫

型号 厚度 压缩比 硬度 沟槽
Suba400 1.27 8.6 60 可客制
Suba400H 1.28 6.9 67 可客制
Suba600 1.27 2.9 81 可客制
Suba800 1.27 2.7 84 可客制
Suba840 1.27 2.1 86 可客制
Suba800 M2 1.26 1.9 88 可客制
Suba800 M4 1.26 2.3 87 可客制
Suba800 T2 1.26 2 90 可客制
Suba500 - - - 可客制
Suba IV 1.29 13.71 41.4 可客制
Suba X - - - 可客制
Politex Reg - - - 可客制
Politex Hi - - - 可客制
Politex Kiss - - - 可客制
H1000系列 - - - 压    花
H1002 1.35 4   压    花
IC1000系列 - - - -
MH 系列 - - - 可客制
SPM3100 - - - -

Politex/H1001

拋光液

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陶氏化学抛光液

NP8020 NP8040 NP8050 NP6501 NP6502
NP6504 NP6610 Klebosol 系列 KU302A  KU302B 
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氧化铝粉

规格:

#240、#280、 #320、#400、#500、#600、#700、#800、#1000、#1200、#1500、#2000、#3000、#4000、#6000

优点:

优异的颗粒形状和硬度的氧化铝基精抛材料,在严格的晶质管理下制造

应用领域:

玻璃、陶瓷、光掩模、晶体、GaN、GaAs、GaP、InP、SiC表面研磨加工,可发挥极其卓越的加工性能,也可以放心地用于附加价值高的加工物。

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氧化铈抛光液

适用于超精密光学平板玻璃及2.5D、3D手机保护屏玻璃的抛光。

特性

严格的粒径控制、增强水合抛光、统筹抛光液流变性能、高抛光效率、精密的抛光表面(粗糙度低,划伤低)、优异的后续清洗性能